Một trong những ứng dụng quan trọng nhất củaargon florua (ArF)Laser Excimer được sử dụng trong quang khắc trong quá trình sản xuất mạch tích hợp bán dẫn.Bước sóng 193 nanomet của laser ArF mang lại độ chính xác tạo khuôn cao hơn khi các thành phần chip thu nhỏ kích thước.
-
Độ phân giải cao hơn – Bước sóng UV ngắn hơn cho phép các tính năng mạch nhỏ hơn tới 45 nanomet được khắc trên tấm silicon.
-
Độ sâu tiêu cự được cải thiện – Bước sóng ArF cũng cung cấp độ sâu lề tiêu cự lớn hơn cho tạo mẫu 3D phức tạp.
-
Khắc nhanh hơn - Ánh sáng ở bước sóng 193nm được các chất quang dẫn hấp thụ mạnh để có tốc độ ăn mòn hiệu quả hơn.
-
Gia nhiệt tối thiểu – Hiệu ứng nhiệt thấp của quá trình cắt bỏ xung ArF giúp ngăn ngừa hư hỏng các lớp quang điện.
-
Giảm ô nhiễm – Không giống như các bước sóng dài hơn, ánh sáng 193nm không tạo ra các chất gây ô nhiễm trong không khí trong quá trình ăn mòn.
-
Kiểm soát tia laser tốt hơn – Hệ thống phân phối chùm tia tiên tiến hướng ánh sáng laser ArF để có độ chính xác xử lý tối đa.
Với sự tinh chỉnh bằng tia laser excimer, môi trường argon fluoride đã giúp tạo ra cuộc cách mạng vi mạch bằng cách hỗ trợ tạo khuôn silicon ở quy mô nanomet và hơn thế nữa.
Thời gian đăng: 12-09-2023