Có rất nhiều loạiKhí laser Excimersự kết hợp được sử dụng một cách công nghiệp và khoa học tùy thuộc vào bước sóng cực tím và mức năng lượng xung mong muốn.Một số hỗn hợp phổ biến và hữu ích nhất bao gồm:
- KrF (krypton fluoride) – Tạo ra tia cực tím 248 nm phổ biến trong in thạch bản mạch tích hợp.Hiệu quả cao và chất lượng chùm tia.
- ArF (argon fluoride) – Cung cấp ánh sáng tia cực tím 193 nm lý tưởng cho việc chế tạo chất bán dẫn tiên tiến.Năng lượng xung thấp hơn.
- XeCl (xenon clorua) – Phát ra tia cực tím 308 nm với năng lượng xung cao được sử dụng trong nong mạch bằng laser.
- XeF (xenon fluoride) – Đầu ra tia UV 351 nm thích hợp cho thuốc thử fluor hóa dạng xung.Xung năng lượng rất cao.
- F2 (flo) – Khí flo nguyên chất tạo ra bức xạ UV chân không 157nm, một trong những bước sóng ngắn nhất.
- KrCl (krypton clorua) - phát xạ 222 nm được tối ưu hóa cho các thủ tục phẫu thuật nhãn khoa.Cắt bỏ mô chính xác hơn.
- ArCl (argon clorua) – UV 175 nm thích hợp cho các ứng dụng quang phổ UV sâu để nghiên cứu.
- KrBr (krypton bromide) – môi trường kích thích 206 nm với độ ổn định quang học được nâng cao tốt nhất cho sử dụng công nghiệp.
Việc lựa chọn hỗn hợp khí laser excimer tối ưu phụ thuộc vào yêu cầu của ứng dụng cụ thể về năng lượng xung, độ ổn định và độ chính xác của bước sóng tia cực tím.Môi trường khí chính xác sẽ tối đa hóa hiệu suất của laser kích thích.
Thời gian đăng: Sep-08-2023