Được phát triển lần đầu tiên vào những năm 1970, laser kích thích argon fluoride tiếp tục đảm nhận vai trò mở rộng nhờ đầu ra bước sóng 193 nanomet độc đáo của chúng.Tương lai của công nghệ ArF là gì?
-
Kỹ thuật in thạch bản thế hệ tiếp theo –Laser ArFđược kỳ vọng sẽ cho phép thu nhỏ hơn nữa xuống chế tạo chất bán dẫn nút dưới 10 nanomet.
-
Cải thiện khả năng kiểm soát xung – Những tiến bộ trong điều chế và định hình xung sẽ mang lại độ chính xác xử lý cao hơn cho các vật liệu mỏng manh.
-
Công suất trung bình cao hơn – Thiết kế buồng hơi ngạt mới sẽ cho phép tốc độ lặp lại và công suất chùm tia trung bình cao hơn.
-
Hệ thống đặt trên bàn – Các thiết bị laser ArF nhỏ gọn hơn và giá cả phải chăng hơn sẽ dẫn đến việc áp dụng rộng rãi hơn ngoài các cơ sở chuyên dụng.
-
Các ứng dụng mới – Bước sóng 193nm có tiềm năng ứng dụng trong khử trùng, nghiên cứu huỳnh quang, phẫu thuật nano và in 3D.
-
Tái chế khí – Cviệc khôi phục vòng lặp bị mất và làm sạch hỗn hợp khí ArF sẽ giúp vận hành tiết kiệm và thân thiện với môi trường hơn.
Ngay cả sau hơn 40 năm phát triển, môi trường laser excimer cải tiến của argon fluoride vẫn tiếp tục cung cấp nguồn ánh sáng cực tím sâu cho phép sản xuất các thiết bị vi điện tử ngày càng nhỏ hơn và mạnh hơn trong tương lai gần.
Thời gian đăng: 14-09-2023