argon florürveya ArF excimer lazer, 193 nanometrelik hassas bir ultraviyole lazer ışını üretmek için ArF gaz karışımının benzersiz özelliklerine dayanır.Lazer işlemine daha yakından bakalım:
-
Gaz Deşarjı – ArF gazına yüksek voltajlı bir elektrik deşarjının uygulanması, serbest elektronlar ve argon iyonları oluşturur.
-
Eksimer Oluşumu – Argon atomları ve flor molekülleri, kısa ömürlü uyarılmış durumlarda eksimer molekülleri oluşturmak üzere bağlanır.
-
Uyarılmış Emisyoniyon – Eksimerler hızlı bir şekilde bağlanmamış atomlara bozunur ve daha fazla foton salınımını tetikleyen fotonları serbest bırakır.
-
Optik Boşluk – Yayılan UV ışığı, arka ayna ile kısmi ön ayna arasında sekerek daha fazla ışık salınımını teşvik eder.
-
Nanosaniye Darbeleri – Eksimer reaksiyonunun denge dışı doğası, darbe süresini megawatt tepe güç seviyeleriyle nanosaniyelerle sınırlar.
-
Işın Gönderimi – Çıkış ışını hassas optik bileşenler tarafından hedef yüzey üzerinde odaklanır ve taranır.
Bu işlem sayesinde, argon florür gazındaki geçici eksimer durumu, maksimum hassasiyet gerektiren mikro işleme uygulamaları için verimli bir şekilde yüksek enerjili 193 nm ultraviyole darbeleri üretebilir.
Gönderim zamanı: 12 Eylül 2023