İlk olarak 1970'lerde geliştirilen argon florür excimer lazerleri, benzersiz 193 nanometre dalga boyu çıktıları göz önüne alındığında genişleyen rolleri üstlenmeye devam ediyor.ArF teknolojisini gelecekte neler bekliyor?
-
Yeni nesil litografi –ArF lazerler10 nanometrenin altındaki düğüm yarı iletken üretimine kadar daha fazla minyatürleştirmeye olanak sağlaması bekleniyor.
-
Geliştirilmiş darbe kontrolü – Darbe modülasyonu ve şekillendirmedeki ilerlemeler, hassas malzemeler için daha yüksek işleme hassasiyetine yol açacaktır.
-
Daha yüksek ortalama güçler – Yeni gaz odası tasarımları daha yüksek tekrarlama oranlarına ve ortalama ışın gücüne olanak tanıyacak.
-
Masa üstü sistemler – Daha kompakt ve uygun fiyatlı ArF lazer üniteleri, özel tesislerin ötesinde daha geniş çapta benimsenmeye yol açacaktır.
-
Yeni uygulamalar – 193nm dalga boyunun sterilizasyon, floresans çalışmaları, nanocerrahi ve 3D baskıda potansiyel kullanımları vardır.
-
Gaz geri dönüşümü – CArF gaz karışımlarının kayıp döngü geri kazanımı ve temizlenmesi, çalışmayı daha ekonomik ve çevre dostu hale getirecektir.
40 yılı aşkın bir geliştirme sürecinden sonra bile, argon florürün yenilikçi excimer lazer ortamı, öngörülebilir gelecekte çok daha küçük ve daha güçlü mikroelektroniklerin üretimini mümkün kılan derin bir ultraviyole ışık kaynağı sağlamaya devam ediyor.
Gönderim zamanı: 14 Eylül 2023