Эксимерные лазеры на фториде аргона, впервые разработанные в 1970-х годах, продолжают приобретать все более широкое применение благодаря своей уникальной длине волны 193 нанометра.Какое будущее ждет технологию ArF?
-
Литография нового поколения –АрФ-лазерыОжидается, что это позволит обеспечить дальнейшую миниатюризацию вплоть до производства полупроводниковых узлов размером менее 10 нанометров.
-
Улучшенный контроль импульсов. Достижения в области модуляции и формирования импульсов приведут к повышению точности обработки деликатных материалов.
-
Более высокая средняя мощность. Новые конструкции газовых камер обеспечат более высокую частоту повторения и среднюю мощность луча.
-
Настольные системы. Более компактные и доступные лазерные установки ArF приведут к более широкому распространению за пределами специализированных учреждений.
-
Новые применения. Длина волны 193 нм может потенциально использоваться в стерилизации, флуоресцентных исследованиях, нанохирургии и 3D-печати.
-
Рециркуляция газа – Срегенерация и очистка газовых смесей ArF сделают работу более экономичной и экологичной.
Даже после более чем 40 лет разработок инновационная эксимерная лазерная среда из фторида аргона продолжает обеспечивать источник глубокого ультрафиолетового света, позволяющий в обозримом будущем производить все более меньшую и более мощную микроэлектронику.
Время публикации: 14 сентября 2023 г.