Desenvolvidos pela primeira vez na década de 1970, os lasers excimer de fluoreto de argônio continuam a assumir papéis em expansão devido à sua saída exclusiva de comprimento de onda de 193 nanômetros.O que o futuro reserva para a tecnologia ArF?
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Litografia de próxima geração –Lasers ARFespera-se que permita uma maior miniaturização até a fabricação de semicondutores de nós abaixo de 10 nanômetros.
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Controle de pulso aprimorado – Os avanços na modulação e modelagem de pulso levarão a uma maior precisão de processamento para materiais delicados.
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Potências médias mais altas – Novos projetos de câmaras de gás permitirão taxas de repetição e potência média de feixe mais altas.
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Sistemas de mesa – Unidades laser ArF mais compactas e acessíveis levarão a uma adoção mais ampla além das instalações especializadas.
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Novas aplicações – O comprimento de onda de 193 nm tem usos potenciais em esterilização, estudos de fluorescência, nanocirurgia e impressão 3D.
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Reciclagem de gás – Ca recuperação de circuito perdido e a limpeza de misturas de gases ArF tornarão a operação mais econômica e ecologicamente correta.
Mesmo depois de mais de 40 anos de desenvolvimento, o inovador meio laser excimer de fluoreto de argônio continua fornecendo uma fonte de luz ultravioleta profunda, permitindo a produção de microeletrônica cada vez menores e mais potentes no futuro próximo.
Horário da postagem: 14 de setembro de 2023