Enquantotetrafluoreto de carbonotem usos bem estabelecidos como gás dielétrico e gravador de plasma, aplicações emergentes continuam a aproveitar suas propriedades exclusivas:
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precursor para a síntese de fluoropolímeros – o plasma CF4 auxilia na deposição de filmes e pós protetores de polímeros de fluorocarbono
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conversão de combustível nuclear – CF4 pode produzir hexafluoreto de urânio para enriquecimento de urânio
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limpeza de semicondutores – o plasma CF4 remove dióxido de silício e resíduos fotorresistentes
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gás traçador – usado para detectar vazamentos e padrões de fluxo em concentrações muito baixas
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modificação da superfície da lente – o tratamento CF4 melhora a hidrofobicidade da lente óptica
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resfriamento de acelerador de partículas – excelente capacidade de calor é adequada para CF4 para resfriamento de seções supercondutoras
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feixes de íons negativos – a injeção de CF4 em duoplasmatrons aumenta a saída de corrente de íons negativos
A extrema estabilidade química combinada com a natureza facilmente dissociada do CF4 fornece uma combinação versátil para a qual os pesquisadores continuam encontrando novas aplicações em todos os campos científicos e industriais.
Horário da postagem: 24 de outubro de 2023