아르곤 불화물 엑시머 레이저의 미래 전망

1970년대에 처음 개발된 아르곤 플루오르화물 엑시머 레이저는 고유한 193nm 파장 출력을 통해 계속해서 역할을 확장하고 있습니다.ArF 기술의 미래는 어떻게 될까요?

• 차세대 리소그래피 –ArF 레이저10나노미터 미만의 노드 반도체 제조까지 더욱 소형화할 수 있을 것으로 예상됩니다.

• 향상된 펄스 제어 – 펄스 변조 및 성형의 발전으로 섬세한 재료의 처리 정밀도가 향상됩니다.

• 더 높은 평균 출력 - 새로운 가스실 설계로 더 높은 반복률과 평균 빔 출력이 가능해졌습니다.

• 테이블탑 시스템 – 보다 작고 저렴한 ArF 레이저 장치는 전문 시설을 넘어 더 폭넓은 채택으로 이어질 것입니다.

• 새로운 응용 – 193nm 파장은 살균, 형광 연구, 나노수술 및 3D 프린팅에 잠재적으로 사용될 수 있습니다.

• 가스 재활용 – CArF 가스 혼합물의 손실 루프 복구 및 세척을 통해 운영이 더욱 경제적이고 환경 친화적이 될 것입니다.

40년이 넘는 개발 기간이 지난 후에도 아르곤 플루오라이드의 혁신적인 엑시머 레이저 매체는 가까운 미래에 더욱 작고 강력한 마이크로 전자공학을 생산할 수 있는 심자외선 광원을 계속해서 제공하고 있습니다.