製品

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  • 三フッ化窒素 NF3 ガス
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三フッ化窒素 NF3 ガス

プロセス :

三フッ化窒素は、式 NF3 の無機化合物です。この窒素フッ素化合物は、無色、無臭、不燃性のガスです。マイクロエレクトロニクスにおけるエッチング剤としての使用が増加しています。三フッ化窒素 (NF3) は、電子産業、半導体、太陽光発電産業などで広く使用されています。残留性がなく、洗浄速度が速く、分解しやすいという利点を備えた、良好なエッチングおよびクリーニングガスです。

概要

梱包と配送

製品の詳細

関連製品

製品パラメータ

他の名前 :

アンモニア

MF:

NH3

式の重み :

17

密度:

0.77kg/m3

CAS 番号:

7664-41-7

EINECS 番号:

231-635-3

国連番号:

UN1005

純度:

99.9%-99.999%

外観:

無色

製品仕様書

製品 NF3
小包のサイズ 40Ltrシリンダー
充填内容/シリンダー 20kg
20'コンテナに積まれた数量 240 シリンダー
全容積 4.8トン
シリンダー風袋重量 50kg
バルブ CGA640

アプリケーションプログラム

三フッ化窒素 (NF3) は無色無臭のガスで、いくつかの産業用途があります。主に半導体産業で、蒸着ツールやエッチング チャンバーの洗浄剤として使用されます。また、フラット パネル ディスプレイ、ソーラー パネル、その他の電子機器の製造にも使用されます。しかし、NF3 は地球温暖化係数が高い強力な温室効果ガスであり、大気中に放出されると気候変動に大きく寄与する可能性があります。そのため、その使用を削減し、これらの用途向けに、より環境に優しい代替物質を見つける努力が行われています。
三フッ化窒素は、エレクトロニクス産業において半導体デバイスのエッチング液として使用されます。

三フッ化窒素は、エレクトロニクス産業において半導体デバイスのエッチング液として使用されます。

三フッ化窒素による滅菌が可能

三フッ化窒素による滅菌が可能

三フッ化窒素は、蒸着 (CVD) プロセスによる電子デバイスの製造に使用できます。

三フッ化窒素は、蒸着 (CVD) プロセスによる電子デバイスの製造に使用できます。

三フッ化窒素は強力な酸化剤です

三フッ化窒素は強力な酸化剤です

三フッ化窒素は有機合成化合物の中間体として使用できます。

三フッ化窒素は有機合成化合物の中間体として使用できます。

三フッ化窒素はコーティング材料の製造に使用可能

三フッ化窒素はコーティング材料の製造に使用可能

梱包と配送

製品

NF3

小包のサイズ

40Ltrシリンダー

充填内容/シリンダー

20kg

20'コンテナに積まれた数量

240 シリンダー

全容積

4.8トン

シリンダー風袋重量

50kg

バルブ

CGA640

利点

製品の詳細

三フッ化窒素 NF3 ガス

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