ニュース
業界ニュースをさらに詳しく見る
ニュースセンター
キセノンガスの医療用途の紹介
キセノンは不活性希ガスであり、吸入時の良性の生物学的効果と麻酔特性を活用する医学においていくつかの興味深い用途が見つかっています。キセノンに関する背景: 非毒性 – キセノンは、他の麻酔ガスとは異なり、毒性および組織刺激レベルが非常に低いです。急速な開始 – キセノンは急速な開始をもたらします...
もっと見る
産業用キセノン用途における課題と進歩
先進技術には不可欠ですが、キセノンを産業規模で活用するにはいくつかの課題が残っています。 供給 – キセノンは天然存在量が少ないため、抽出と精製にコストがかかります。新しい分離技術は、空気からキセノンをより効率的に回収することを目的としています。保管 – キセノンは高圧シリンダーに保管する必要があります...
もっと見る
宇宙船推進システムにおけるキセノンの使用
キセノン ガスは、その高分子量と不活性性を利用したいくつかの主要な宇宙船推進システムに動力を供給します。 イオン スラスター – キセノンはイオン化され、電気的に高速に加速され、効率的なステーション維持を可能にします。ホール効果スラスター - キセノン イオンは、最小限の速度で軌道操縦のための推力を生成します。
もっと見る
イメージングとヘルスケアにおけるキセノンの用途
照明に加えて、キセノンの希ガスの特性は、医療および産業用イメージング用途に利点をもたらします。 MRI – 過分極キセノンガスは、吸入造影剤として MRI イメージングを強化します。核医学 – 放射性キセノン同位体は診断用放射性医薬品に使用されます。麻酔 – キセノン ...
もっと見る
照明におけるキセノンの応用
キセノンの特性により、高度な照明技術に最適です。 キセノン アークランプ – 映画の映写、自動車のヘッドランプ、サーチライトで使用される高輝度の白色光源。キセノン フラッシュ ランプ – カメラのフラッシュ、工業用 UV 硬化、およびストロボスコープ科学研究用の強力なミリ秒 UV バースト。
もっと見る
キセノンガスの産業用途の紹介
キセノンは、その独特の原子特性を利用してさまざまな産業用途に使用される希ガス元素です。キセノンに関する背景: 希少希ガス – 大気中に微量に存在します。商業生産には空気分離が含まれます。原子量 131 amu – 最も密度の高い安定した希ガス、4 時間以上...
もっと見る
六フッ化硫黄ガスの用途
六フッ化硫黄 (SF6) ガスは、送電、産業インフラ、家庭用電化製品で使用される高出力電気システムの実現と絶縁に不可欠なツールとなっています。主な用途には以下が含まれます: 回路ブレーカーのアーク消弧 - SF6 により、アーク損傷を制限し、回路を再接続するコンパクトな遮断器が可能になります。
もっと見る
六フッ化硫黄ガスの紹介
化学式 SF6 で表される六フッ化硫黄は、電気絶縁用途で一般的に使用される無機フルオロカーボンガスです。このガスに関する重要な事実は次のとおりです。 分子構造 - SF6 は、八面体配置の 6 つのフッ素原子に囲まれた硫黄原子で構成されています。この非常に対称的な構造は、...
もっと見る
フッ化アルゴンエキシマレーザーの将来展望
1970 年代に初めて開発されたフッ化アルゴン エキシマ レーザーは、その独特な 193 ナノメートルの波長出力により、その役割を拡大し続けています。ArFテクノロジーの将来はどうなるでしょうか?次世代リソグラフィ – ArF レーザーにより、10 ナノメートル未満のノードの半導体製造のさらなる小型化が可能になると期待されています。
もっと見る
フォトリソグラフィーにおけるフッ化アルゴンの役割
フッ化アルゴン (ArF) エキシマ レーザーの最も重要な用途の 1 つは、半導体集積回路製造時のフォトリソグラフィーです。ArF レーザーの 193 ナノメートルの波長により、チップ コンポーネントのサイズが縮小するにつれて、より高いパターニング精度が可能になります。より高い解像度 – UV 波長が短いため、回路を小さくできます...
もっと見る
フッ化アルゴンエキシマレーザーの仕組み
フッ化アルゴンまたは ArF エキシマ レーザーは、ArF ガス混合物の独特の特性を利用して、正確な 193 ナノメートルの紫外線レーザー ビームを生成します。ここでは、レーザー発振プロセスを詳しく見ていきます。 ガス放電 – ArF ガスに高電圧放電を適用すると、自由電子とアルゴン イオンが生成されます。エキシマフォーマ...
もっと見る
フッ化アルゴンエキシマレーザーガスの紹介
化学式 ArF を持つフッ化アルゴンは、エキシマ レーザーのガスとしてよく使用されます。エキシマ レーザーは、短寿命のエキシマ分子を形成する反応性ガス混合物を利用して、紫外線レーザー放射のバーストを放射します。ArF に関する重要な事実: 組成 - ArF ガスは、0.1% のフッ素と 99.9% のアルゴンで構成され、バッファーガスとバランスが取れています。
もっと見る