フッ化アルゴンエキシマレーザーガスの紹介

    フッ化アルゴン化学式 ArF を持つ、人気のあるエキシマ レーザー ガスです。エキシマ レーザーは、短寿命のエキシマ分子を形成する反応性ガス混合物を利用して、紫外線レーザー放射のバーストを放射します。ArF に関する重要な事実:

• 組成 – ArF ガスは、0.1% のフッ素と 99.9% のアルゴンで構成され、ネオンやヘリウムなどのバッファーガスとバランスが保たれています。

• 紫外線波長 – ArF レーザーは、最も短い UV 波長の 1 つである 193 ナノメートルのコヒーレント光を放射します。エキシマーによって生成されます。

• パルス出力 – レーザー発振はナノ秒パルスで発生し、ギガワットに達する高いピーク電力を持ちますが、デューティ サイクルは低くなります。

• 冷却システム – エキシマ形成を可能にするには、ArF ガスを循環させ、約 -60°C の極低温まで冷却する必要があります。

• アプリケーション – 193nm UV 光は、半導体チップ製造やその他の精密微細加工のためのフォトリソグラフィーで広く使用されています。

フッ化アルゴンエキシマレーザーは、波長が短く信頼性の高い性能を備えているため、最大の解像度が必要な高度な材料加工用の多用途の UV 光源です。