エキシマレーザーガスの紹介

エキシマ レーザー ガスは、エキシプレックス ガスとしても知られ、エキシマ レーザーのレーザー発振媒体として使用されます。これらは、短寿命のエキシマー分子またはダイマーの形成と崩壊を通じて高強度の紫外線レーザー光線を放射することができます。の主な機能をいくつか紹介します。エキシマガス:

• 組成 - アルゴンやクリプトンなどの希ガスと反応性ハロゲンガス (通常はフッ素または塩素) が混合されたもので構成されています。一般的な組み合わせは ArF と KrF です。
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• エキシマー形成 – 電気刺激により希ガス原子とハロゲンガスが一時的に結合して、すぐに崩壊する励起状態の二量体であるエキシマーを形成します。
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• UV 放射 – この崩壊プロセスでは、紫外線範囲の光子が放出されます。異なるガス混合物は、さまざまな用途に適した異なる UV 波長を放射します。
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• パルス出力 – エキシマ レーザーは、ナノ秒の非常に短いパルス持続時間とメガワットの高いピーク出力を持つパルス ビームを生成します。
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• 冷却システム – ガスは閉じた循環システムに組み込まれ、エキシマー反応を可能にするために極低温まで冷却されます。

エキシマ レーザー ガスの独特の特性、特に強力な紫外線レーザー光を生成する能力により、強力な UV 源を必要とするさまざまな技術プロセスや工業プロセスで役立ちます。