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  • BF3-11 同位体 三塩化ホウ素 11 同位体ガス
  • BF3-11 同位体 三塩化ホウ素 11 同位体ガス

BF3-11 同位体 三塩化ホウ素 11 同位体ガス

プロセス :

三塩化ホウ素 11 (B11Cl3) は、室温および常圧で無色の発煙ガスであり、可燃性、刺激性、酸性の臭気があり、水と接触すると塩化水素とホウ酸に分解し、大量の熱を放出し、加水分解によりヒュームを発生します。湿気の多い空気中では、アルコール中で塩酸とホウ酸エステルに分解します。三塩化ホウ素 11 は強い反応性を持ち、さまざまな配位化合物を形成でき、三塩化ホウ素を加熱するとガラス、セラミックスと反応するだけでなく、多くの有機物と反応してさまざまな有機ホウ素化合物を形成します。高純度三塩化ホウ素 11 は、主にシリコンの拡散によって生成されたホウ素不純物の分解後、高温で拡散ドーピングを行い、P 型半導体を形成する(シリコン)半導体デバイスの製造プロセスに使用されますが、使用することもできます。 Al、MoSi2、TaSi2、TiSi2、WSi、その他の材料のドライエッチングなど。

概要

製品仕様書

関連製品

製品パラメータ

同位体名:

三フッ化ホウ素-11

同位体記号:

11BF3

中性子数:

6

質量数:

11

原子番号:

5

自然発生の割合:

100%

人生の半分:

安定同位体

放射能:

非放射性同位体

電子配置:

1s²2s²2p¹

同位体名

三フッ化ホウ素-11

アプリケーションプログラム

三フッ化ホウ素 11 ガスは、さまざまな用途に使用できるユニークな同位体です。中性子捕捉の断面積が大きいため、原子力産業において中性子検出器として一般的に使用されています。核医学の分野では、三フッ化ホウ素 11 は、体内の代謝プロセスを視覚化するための陽電子放射断層撮影 (PET) イメージングに使用されます。半導体産業では、電子デバイス用のホウ素ドープ膜を堆積するためにも使用されます。さらに、三フッ化ホウ素 11 ガスは、化学反応や特殊光ファイバーの製造における触媒として使用されます。その安定した性質と高純度により、さまざまな用途にとって価値のあるツールとなります。
三フッ化ホウ素-11は陽電子の生成に使用可能

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三フッ化ホウ素-11は核融合の研究に使用可能

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三フッ化ホウ素-11は核医学の研究に使用可能

三フッ化ホウ素-11は核医学の研究に使用可能

三フッ化ホウ素-11 は同位体標識化合物の調製に使用可能

三フッ化ホウ素-11 は同位体標識化合物の調製に使用可能

三フッ化ホウ素-11 は化学反応の研究に使用可能

三フッ化ホウ素-11 は化学反応の研究に使用可能

三フッ化ホウ素-11 は材料科学の研究に使用可能

三フッ化ホウ素-11 は材料科学の研究に使用可能

製品仕様書

パラメータ パラメータ

単位 单位

仕様評価

分析方法 分析方法

BF3度

%

>99.995

/

11B 丰度 (富集度)

%

>99.8

ICP-MS(离子质谱仪)

O2

ppmv

<5.0

GC(色谱仪)

N2

ppmv

<40.0

GC(色谱仪)

C02

ppmv

<10.0

GC(色谱仪)

CO

ppmv

<25.0

GC(色谱仪)

CH4

ppmv

<10.0

GC(色谱仪)

s02

ppmv

<2.0

ウェットケミカル(湿化学法)

SiF4

ppmw

<4.0

測光器 (分光光度计)

硫酸塩

ppmw

<4.0

測光器 (分光光度计)

HF

ppmv

該当なし

FTIR(红外光谱仪)

利点

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