Uno degli usi più vitali difluoruro di argon (ArF)i laser ad eccimeri sono utilizzati nella fotolitografia durante la produzione di circuiti integrati a semiconduttore.La lunghezza d'onda di 193 nanometri del laser ArF consente una maggiore precisione di modellazione poiché i componenti del chip si riducono di dimensioni.
-
Risoluzione più elevata – La lunghezza d’onda UV più corta consente di incidere su wafer di silicio caratteristiche di circuiti più piccoli fino a 45 nanometri.
-
Profondità di messa a fuoco migliorata – La lunghezza d'onda ArF fornisce anche margini di profondità di messa a fuoco più grandi per modelli 3D complessi.
-
Incisione più rapida: la luce a 193 nm viene fortemente assorbita dai fotoresist per velocità di incisione ad ablazione più efficienti.
-
Riscaldamento minimo – I bassi effetti termici dell’ablazione pulsata ArF prevengono danni agli strati di fotoresist.
-
Contaminazione ridotta – A differenza delle lunghezze d'onda più lunghe, la luce da 193 nm non produce contaminanti presenti nell'aria durante l'incisione.
-
Controllo laser più preciso: i sistemi avanzati di erogazione del raggio dirigono la luce laser ArF per la massima precisione di elaborazione.
Con il perfezionamento del laser ad eccimeri, i mezzi di fluoruro di argon hanno contribuito a consentire la rivoluzione dei microchip supportando la modellazione del silicio su scala nanometrica e oltre.
Orario di pubblicazione: 12 settembre 2023