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Miscele di gas laser ad eccimeri popolari

 

Ce ne sono una varietà digas laser ad eccimericombinazioni utilizzate a livello industriale e scientifico a seconda della lunghezza d'onda ultravioletta desiderata e del livello di energia dell'impulso.Alcune delle miscele più comuni e utili includono:

Miscele di gas laser ad eccimeri

 

  • KrF (fluoruro di krypton) – Genera UV da 248 nm popolare nella litografia a circuito integrato.Alta efficienza e qualità del fascio.
  • ArF (fluoruro di argon) – Fornisce luce UV a 193 nm ideale per la fabbricazione avanzata di semiconduttori.Energia dell'impulso inferiore.
  • XeCl (cloruro di xeno) – Emette UV a 308 nm con energie di impulso elevate utilizzate nell'angioplastica laser.
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  • XeF (fluoruro di xeno) – Uscita di UV da 351 nm adatta per reagenti di fluorurazione pulsata.Impulsi ad altissima energia.
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  • F2 (fluoro) – Il gas di fluoro puro produce radiazioni UV sotto vuoto di 157 nm, una delle lunghezze d'onda più corte.
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  • KrCl (cloruro di krypton) – emissione di 222 nm ottimizzata per procedure di chirurgia oftalmica.Ablazione dei tessuti più precisa.
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  • ArCl (cloruro di argon) – UV 175 nm adatto per applicazioni di spettroscopia UV profonda per la ricerca.
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  • KrBr (kripton bromuro) – mezzo ad eccimeri da 206 nm con stabilità ottica migliorata, ideale per usi industriali.
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La scelta della miscela ottimale di gas laser ad eccimeri dipende dai requisiti dell'applicazione specifica in termini di energia dell'impulso, stabilità e precisione della lunghezza d'onda ultravioletta.Il mezzo di gas corretto massimizza le prestazioni dei laser ad eccimeri.


Orario di pubblicazione: 08 settembre 2023