Ce ne sono una varietà digas laser ad eccimericombinazioni utilizzate a livello industriale e scientifico a seconda della lunghezza d'onda ultravioletta desiderata e del livello di energia dell'impulso.Alcune delle miscele più comuni e utili includono:
- KrF (fluoruro di krypton) – Genera UV da 248 nm popolare nella litografia a circuito integrato.Alta efficienza e qualità del fascio.
- ArF (fluoruro di argon) – Fornisce luce UV a 193 nm ideale per la fabbricazione avanzata di semiconduttori.Energia dell'impulso inferiore.
- XeCl (cloruro di xeno) – Emette UV a 308 nm con energie di impulso elevate utilizzate nell'angioplastica laser.
- XeF (fluoruro di xeno) – Uscita di UV da 351 nm adatta per reagenti di fluorurazione pulsata.Impulsi ad altissima energia.
- F2 (fluoro) – Il gas di fluoro puro produce radiazioni UV sotto vuoto di 157 nm, una delle lunghezze d'onda più corte.
- KrCl (cloruro di krypton) – emissione di 222 nm ottimizzata per procedure di chirurgia oftalmica.Ablazione dei tessuti più precisa.
- ArCl (cloruro di argon) – UV 175 nm adatto per applicazioni di spettroscopia UV profonda per la ricerca.
- KrBr (kripton bromuro) – mezzo ad eccimeri da 206 nm con stabilità ottica migliorata, ideale per usi industriali.
La scelta della miscela ottimale di gas laser ad eccimeri dipende dai requisiti dell'applicazione specifica in termini di energia dell'impulso, stabilità e precisione della lunghezza d'onda ultravioletta.Il mezzo di gas corretto massimizza le prestazioni dei laser ad eccimeri.
Orario di pubblicazione: 08 settembre 2023