ILfluoruro di argonoppure il laser ad eccimeri ArF si basa sulle proprietà uniche della miscela di gas ArF per generare un preciso raggio laser ultravioletto da 193 nanometri.Ecco uno sguardo più da vicino al processo laser:
-
Scarica di gas – L’applicazione di una scarica elettrica ad alta tensione al gas ArF crea elettroni liberi e ioni argon.
-
Formazione di eccimeri – Gli atomi di argon e le molecole di fluoro si legano per formare molecole di eccimeri in stati eccitati di breve durata.
-
Emissione stimolataione – Gli eccimeri decadono rapidamente tornando ad atomi non legati, rilasciando fotoni innescando un rilascio di più fotoni.
-
Cavità ottica: la luce UV emessa rimbalza tra lo specchietto posteriore e lo specchietto anteriore parziale stimolando un ulteriore rilascio di luce.
-
Impulsi di nanosecondi – La natura di non equilibrio della reazione degli eccimeri limita la durata dell’impulso a nanosecondi con livelli di potenza di picco di megawatt.
-
Emissione del raggio: il raggio di uscita viene focalizzato e scansionato sulla superficie del bersaglio da componenti ottici di precisione.
Attraverso questo processo, lo stato transitorio di eccimeri nel gas fluoruro di argon può generare in modo efficiente impulsi ultravioletti ad alta energia da 193 nm per applicazioni di microlavorazione che richiedono la massima precisione.
Orario di pubblicazione: 12 settembre 2023