Sviluppati per la prima volta negli anni '70, i laser ad eccimeri al fluoruro di argon continuano ad assumere ruoli in espansione data la loro lunghezza d'onda unica di 193 nanometri.Cosa riserva il futuro alla tecnologia ArF?
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Litografia di nuova generazione –Laser ArFdovrebbero consentire un'ulteriore miniaturizzazione fino alla fabbricazione di semiconduttori con nodi inferiori a 10 nanometri.
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Migliore controllo degli impulsi – I progressi nella modulazione e nella modellazione degli impulsi porteranno a una maggiore precisione di lavorazione per i materiali delicati.
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Potenze medie più elevate – I nuovi design delle camere a gas consentiranno tassi di ripetizione più elevati e potenza media del raggio.
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Sistemi da tavolo – Unità laser ArF più compatte e convenienti porteranno a un’adozione più ampia oltre le strutture specializzate.
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Nuove applicazioni – La lunghezza d’onda di 193 nm ha potenziali usi nella sterilizzazione, negli studi sulla fluorescenza, nella nanochirurgia e nella stampa 3D.
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Riciclo del gas – Cil recupero a circuito perso e la pulizia delle miscele di gas ArF renderanno il funzionamento più economico ed ecologico.
Anche dopo oltre 40 anni di sviluppo, l’innovativo mezzo laser ad eccimeri costituito dal fluoruro di argon continua a fornire una sorgente di luce ultravioletta profonda che consente la produzione di componenti microelettronici sempre più piccoli e potenti nel prossimo futuro.
Orario di pubblicazione: 14 settembre 2023