Mentretetrafluoruro di carbonioha usi consolidati come gas dielettrico e agente di attacco al plasma, le applicazioni emergenti continuano a sfruttare le sue proprietà uniche:
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precursore per la sintesi di fluoropolimeri: il plasma CF4 favorisce la deposizione di pellicole e polveri polimeriche protettive di fluorocarburi
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conversione del combustibile nucleare: CF4 può produrre esafluoruro di uranio per l'arricchimento dell'uranio
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pulizia dei semiconduttori: il plasma CF4 rimuove il biossido di silicio e i residui di fotoresist
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gas tracciante: utilizzato per rilevare perdite e schemi di flusso a concentrazioni molto basse
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modifica della superficie della lente: il trattamento CF4 migliora l'idrofobicità della lente ottica
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Raffreddamento dell'acceleratore di particelle: l'eccellente capacità termica è adatta al CF4 per il raffreddamento delle sezioni superconduttrici
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fasci di ioni negativi: l’iniezione di CF4 nei duoplasmatron migliora l’emissione di corrente di ioni negativi
L'estrema stabilità chimica combinata con la natura facilmente dissociata del CF4 fornisce una combinazione versatile per la quale i ricercatori continuano a trovare nuove applicazioni in tutti i campi scientifici e industriali.
Orario di pubblicazione: 24 ottobre 2023