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Usi e applicazioni emergenti del tetrafluoruro di carbonio

 

Mentretetrafluoruro di carbonioha usi consolidati come gas dielettrico e agente di attacco al plasma, le applicazioni emergenti continuano a sfruttare le sue proprietà uniche:

 

 

  • precursore per la sintesi di fluoropolimeri: il plasma CF4 favorisce la deposizione di pellicole e polveri polimeriche protettive di fluorocarburi

  • conversione del combustibile nucleare: CF4 può produrre esafluoruro di uranio per l'arricchimento dell'uranio

  • pulizia dei semiconduttori: il plasma CF4 rimuove il biossido di silicio e i residui di fotoresist

  • gas tracciante: utilizzato per rilevare perdite e schemi di flusso a concentrazioni molto basse

  • modifica della superficie della lente: il trattamento CF4 migliora l'idrofobicità della lente ottica

  • Raffreddamento dell'acceleratore di particelle: l'eccellente capacità termica è adatta al CF4 per il raffreddamento delle sezioni superconduttrici

  • fasci di ioni negativi: l’iniezione di CF4 nei duoplasmatron migliora l’emissione di corrente di ioni negativi

 

 

L'estrema stabilità chimica combinata con la natura facilmente dissociata del CF4 fornisce una combinazione versatile per la quale i ricercatori continuano a trovare nuove applicazioni in tutti i campi scientifici e industriali.


Orario di pubblicazione: 24 ottobre 2023