Lefluorure d'argonou le laser excimère ArF s'appuie sur les propriétés uniques du mélange gazeux ArF pour générer un faisceau laser ultraviolet précis de 193 nanomètres.Voici un aperçu plus approfondi du processus de laser :
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Décharge de gaz – L'application d'une décharge électrique à haute tension au gaz ArF crée des électrons libres et des ions argon.
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Formation d'excimère – Les atomes d'argon et les molécules de fluor se lient pour former des molécules d'excimère dans des états excités de courte durée.
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Émission stimuléeion – Les excimères se désintègrent rapidement en atomes non liés, libérant des photons déclenchant une libération accrue de photons.
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Cavité optique – La lumière UV émise rebondit entre le rétroviseur arrière et le rétroviseur avant partiel, stimulant ainsi une libération de lumière supplémentaire.
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Impulsions nanosecondes – La nature hors équilibre de la réaction excimère limite la durée des impulsions à des nanosecondes avec des niveaux de puissance de crête en mégawatts.
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Livraison du faisceau – Le faisceau de sortie est focalisé et balayé sur la surface cible par des composants optiques de précision.
Grâce à ce processus, l'état transitoire de l'excimère dans le fluorure d'argon peut générer efficacement des impulsions ultraviolettes de haute énergie de 193 nm pour les applications de micro-usinage nécessitant une précision maximale.
Heure de publication : 12 septembre 2023