Développés pour la première fois dans les années 1970, les lasers excimer au fluorure d'argon continuent de jouer un rôle croissant grâce à leur longueur d'onde unique de 193 nanomètres.Quel avenir pour la technologie ArF ?
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Lithographie nouvelle génération –Lasers ArFdevraient permettre une miniaturisation plus poussée jusqu'à la fabrication de semi-conducteurs à nœuds inférieurs à 10 nanomètres.
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Contrôle des impulsions amélioré – Les progrès en matière de modulation et de mise en forme des impulsions conduiront à une plus grande précision de traitement des matériaux délicats.
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Puissances moyennes plus élevées – Les nouvelles conceptions de chambres à gaz permettront des taux de répétition et une puissance de faisceau moyenne plus élevés.
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Systèmes de table – Des unités laser ArF plus compactes et abordables conduiront à une adoption plus large au-delà des installations spécialisées.
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Nouvelles applications – La longueur d’onde de 193 nm a des utilisations potentielles dans la stérilisation, les études de fluorescence, la nanochirurgie et l’impression 3D.
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Recyclage des gaz – CLa récupération en boucle perdue et le nettoyage des mélanges gazeux ArF rendront l’exploitation plus économique et plus respectueuse de l’environnement.
Même après plus de 40 ans de développement, le milieu laser excimer innovant du fluorure d'argon continue de fournir une source de lumière ultraviolette profonde permettant la production de composants microélectroniques toujours plus petits et plus puissants dans un avenir prévisible.
Heure de publication : 14 septembre 2023