Hay una variedad degas láser excimercombinaciones utilizadas industrial y científicamente dependiendo de la longitud de onda ultravioleta deseada y el nivel de energía del pulso.Algunas de las mezclas más comunes y útiles incluyen:
- KrF (fluoruro de criptón): genera luz ultravioleta de 248 nm, popular en la litografía de circuitos integrados.Alta eficiencia y calidad del haz.
- ArF (fluoruro de argón): proporciona luz UV de 193 nm, ideal para la fabricación avanzada de semiconductores.Menor energía del pulso.
- XeCl (cloruro de xenón): emite rayos UV de 308 nm con altas energías de pulso que se utilizan en la angioplastia con láser.
- XeF (fluoruro de xenón): salida de UV de 351 nm adecuada para reactivos de fluoración pulsada.Pulsos de muy alta energía.
- F2 (flúor): el gas flúor puro produce radiación UV al vacío de 157 nm, una de las longitudes de onda más cortas.
- KrCl (cloruro de criptón): emisión de 222 nm optimizada para procedimientos de cirugía oftálmica.Ablación de tejidos más precisa.
- ArCl (cloruro de argón): UV de 175 nm adecuado para aplicaciones de espectroscopia UV profunda para investigación.
- KrBr (bromuro de criptón): medio excímero de 206 nm con estabilidad óptica mejorada, ideal para usos industriales.
La elección de la mezcla óptima de gases para el láser excimer depende de los requisitos de la aplicación específica en cuanto a energía del pulso, estabilidad y precisión de la longitud de onda ultravioleta.El medio gaseoso correcto maximiza el rendimiento de los láseres excimer.
Hora de publicación: 08-sep-2023