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Mezclas de gases láser excimer populares

 

Hay una variedad degas láser excimercombinaciones utilizadas industrial y científicamente dependiendo de la longitud de onda ultravioleta deseada y el nivel de energía del pulso.Algunas de las mezclas más comunes y útiles incluyen:

Mezclas de gases para láser excimer

 

  • KrF (fluoruro de criptón): genera luz ultravioleta de 248 nm, popular en la litografía de circuitos integrados.Alta eficiencia y calidad del haz.
  • ArF (fluoruro de argón): proporciona luz UV de 193 nm, ideal para la fabricación avanzada de semiconductores.Menor energía del pulso.
  • XeCl (cloruro de xenón): emite rayos UV de 308 nm con altas energías de pulso que se utilizan en la angioplastia con láser.
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  • XeF (fluoruro de xenón): salida de UV de 351 nm adecuada para reactivos de fluoración pulsada.Pulsos de muy alta energía.
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  • F2 (flúor): el gas flúor puro produce radiación UV al vacío de 157 nm, una de las longitudes de onda más cortas.
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  • KrCl (cloruro de criptón): emisión de 222 nm optimizada para procedimientos de cirugía oftálmica.Ablación de tejidos más precisa.
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  • ArCl (cloruro de argón): UV de 175 nm adecuado para aplicaciones de espectroscopia UV profunda para investigación.
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  • KrBr (bromuro de criptón): medio excímero de 206 nm con estabilidad óptica mejorada, ideal para usos industriales.
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La elección de la mezcla óptima de gases para el láser excimer depende de los requisitos de la aplicación específica en cuanto a energía del pulso, estabilidad y precisión de la longitud de onda ultravioleta.El medio gaseoso correcto maximiza el rendimiento de los láseres excimer.


Hora de publicación: 08-sep-2023