Elfluoruro de argóno láser excímero ArF se basa en las propiedades únicas de la mezcla de gas ArF para generar un rayo láser ultravioleta preciso de 193 nanómetros.Aquí hay una mirada más cercana al proceso de láser:
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Descarga de gas: la aplicación de una descarga eléctrica de alto voltaje al gas ArF crea electrones libres e iones de argón.
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Formación de excímeros: los átomos de argón y las moléculas de flúor se unen para formar moléculas de excímeros en estados excitados de corta duración.
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Emisión estimuladaion: los excímeros se desintegran rápidamente y vuelven a convertirse en átomos libres, liberando fotones que provocan una mayor liberación de fotones.
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Cavidad óptica: la luz ultravioleta emitida rebota entre el espejo trasero y el espejo delantero parcial, estimulando una mayor liberación de luz.
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Pulsos de nanosegundos: la naturaleza de no equilibrio de la reacción del excímero limita la duración del pulso a nanosegundos con niveles de potencia máxima de megavatios.
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Entrega del haz: el haz de salida se enfoca y escanea sobre la superficie del objetivo mediante componentes ópticos de precisión.
A través de este proceso, el estado excímero transitorio en el gas fluoruro de argón puede generar de manera eficiente pulsos ultravioleta de 193 nm de alta energía para aplicaciones de micromecanizado que requieren la máxima precisión.
Hora de publicación: 12 de septiembre de 2023