Desarrollados por primera vez en la década de 1970, los láseres excimer de fluoruro de argón continúan asumiendo funciones cada vez más importantes dada su salida única de longitud de onda de 193 nanómetros.¿Qué le depara el futuro a la tecnología ArF?
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Litografía de última generación –Láseres ArFSe espera que permitan una mayor miniaturización hasta la fabricación de semiconductores de nodos de menos de 10 nanómetros.
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Control de pulso mejorado: los avances en la modulación y la conformación de pulso conducirán a una mayor precisión en el procesamiento de materiales delicados.
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Potencias promedio más altas: los nuevos diseños de cámaras de gas permitirán tasas de repetición y potencia promedio del haz más altas.
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Sistemas de mesa: las unidades láser ArF más compactas y asequibles conducirán a una adopción más amplia más allá de las instalaciones especializadas.
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Aplicaciones novedosas: la longitud de onda de 193 nm tiene usos potenciales en esterilización, estudios de fluorescencia, nanocirugía e impresión 3D.
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Reciclaje de gas – CLa recuperación de circuito perdido y la limpieza de mezclas de gases ArF harán que la operación sea más económica y ecológica.
Incluso después de más de 40 años de desarrollo, el innovador medio láser excimer de fluoruro de argón continúa proporcionando una fuente de luz ultravioleta profunda que permitirá la producción de microelectrónica cada vez más pequeña y potente en el futuro previsible.
Hora de publicación: 14-sep-2023