Mientrastetrafluoruro de carbonotiene usos bien establecidos como gas dieléctrico y grabador de plasma, las aplicaciones emergentes continúan aprovechando sus propiedades únicas:
-
precursor para la síntesis de fluoropolímeros: el plasma CF4 ayuda a la deposición de películas y polvos protectores de polímeros de fluorocarbono
-
Conversión de combustible nuclear: el CF4 puede producir hexafluoruro de uranio para el enriquecimiento de uranio.
-
Limpieza de semiconductores: el plasma CF4 elimina el dióxido de silicio y los residuos de fotorresistentes.
-
Gas trazador: utilizado para detectar fugas y patrones de flujo en concentraciones muy bajas.
-
Modificación de la superficie de la lente: el tratamiento con CF4 mejora la hidrofobicidad de la lente óptica.
-
enfriamiento por acelerador de partículas: excelente capacidad calorífica adecuada para CF4 para enfriar secciones superconductoras
-
haces de iones negativos: la inyección de CF4 en duoplasmatrones mejora la salida de corriente de iones negativos
La extrema estabilidad química combinada con la naturaleza fácilmente disociada del CF4 proporciona una combinación versátil para la que los investigadores continúan encontrando nuevas aplicaciones en todos los campos científicos e industriales.
Hora de publicación: 24 de octubre de 2023