El tetrafluoruro de carbono, de fórmula química CF4, es un gas fluorocarbonado inorgánico.Tiene una geometría molecular tetraédrica que consta de un átomo de carbono central rodeado por cuatro átomos de flúor.Estas son algunas de las propiedades físicas y químicas notables del CF4:
Tetrafluoruro de carbono (CF4)se ha convertido en un gas esencial para la industria electrónica, especialmente en procesos de grabado por plasma y deposición química de vapor.Con su alto contenido de flúor, el CF4 se disocia en radicales F reactivos e iones que graban selectivamente materiales como el dióxido de silicio sobre el silicio.Esto permite crear patrones y dar forma con precisión a las capas de óxido aislantes de las obleas semiconductoras durante la producción de microchips.El CF4 también es útil para limpiar cámaras de deposición gracias a su capacidad para eliminar residuos rebeldes que contienen silicio.Además, el CF4 puede grabar selectivamente tungsteno y titanio sin eliminar el aluminio.Con condiciones de plasma ajustables, los plasmas CF4 permiten un grabado anisotrópico, esencial para mantener las paredes laterales verticales en las características grabadas para la fabricación de circuitos integrados.
A temperatura y presión estándar, es un gas incoloro y no inflamable.Tiene un ligero olor etéreo.Es moderadamente soluble en disolventes orgánicos.Tiene una alta densidad de 3,72 g/L en STP, alrededor de 3 veces más pesado que el aire.Es uno de los fluoruros de carbono más estables química y térmicamente.
El CF4 permanece inerte en un amplio rango de temperaturas de hasta unos 500 °C.No se puede licuar fácilmente excepto bajo altas presiones.Una propiedad clave es su alta electronegatividad y rigidez dieléctrica, aproximadamente 2 veces mayor que la del aire.Esto lo hace muy adecuado como medio dieléctrico gaseoso.En general, el CF4 es un gas altamente simétrico, estable y no reactivo, excepto en presencia de calentamiento extremo o descargas eléctricas.
Hora de publicación: 16 de octubre de 2023