Beliebte Excimer-Lasergasmischungen

Es gibt eine Vielzahl vonExcimer-LasergasKombinationen, die je nach gewünschter UV-Wellenlänge und Pulsenergieniveau industriell und wissenschaftlich eingesetzt werden.Zu den gebräuchlichsten und nützlichsten Mischungen gehören:

• KrF (Kryptonfluorid) – Erzeugt 248-nm-UV-Strahlung, die in der Lithographie integrierter Schaltkreise beliebt ist.Hohe Effizienz und Strahlqualität.
• ArF (Argonfluorid) – Bietet 193 nm UV-Licht, ideal für die fortschrittliche Halbleiterfertigung.Niedrigere Pulsenergie.
• XeCl (Xenonchlorid) – Emittiert 308 nm UV mit hohen Pulsenergien, die bei der Laserangioplastie verwendet werden.
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• XeF (Xenonfluorid) – Ausgabe von 351 nm UV, geeignet für gepulste Fluorierungsreagenzien.Sehr energiereiche Impulse.
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• F2 (Fluor) – Reines Fluorgas erzeugt Vakuum-UV-Strahlung mit 157 nm, eine der kürzesten Wellenlängen.
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• KrCl (Kryptonchlorid) – 222-nm-Emission, optimiert für augenchirurgische Eingriffe.Präzisere Gewebeablation.
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• ArCl (Argonchlorid) – 175 nm UV, geeignet für Tief-UV-Spektroskopieanwendungen in der Forschung.
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• KrBr (Kryptonbromid) – 206-nm-Excimermedium mit verbesserter optischer Stabilität, ideal für industrielle Anwendungen.
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Die Wahl der optimalen Excimer-Lasergasmischung hängt von den Anforderungen der jeweiligen Anwendung an Impulsenergie, Stabilität und Präzision der ultravioletten Wellenlänge ab.Das richtige Gasmedium maximiert die Leistung von Excimer-Lasern.