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Einführung in das Argonfluorid-Excimer-Lasergas

 

 

    Argonfluoridmit der chemischen Formel ArF ist ein beliebtes Excimer-Lasergas.Excimer-Laser nutzen reaktive Gasmischungen, die kurzlebige Excimer-Moleküle bilden, um Stöße ultravioletter Laserstrahlung auszusenden.Einige wichtige Fakten über ArF:

 

  • Zusammensetzung – ArF-Gas besteht aus 0,1 % Fluor und 99,9 % Argon, ausgeglichen mit einem Puffergas wie Neon oder Helium.

  • Ultraviolette Wellenlänge – ArF-Laser emittieren kohärentes Licht mit 193 Nanometern, einer der kürzesten UV-Wellenlängendurch Excimere erzeugt.

  • Gepulster Ausgang – Der Laservorgang erfolgt in Nanosekunden-Pulsen mit hoher Spitzenleistung, die Gigawatt erreicht, aber niedrigem Arbeitszyklus.

  • Kühlsysteme – ArF-Gas muss zirkuliert und auf kryogene Temperaturen um -60 °C gekühlt werden, um die Excimerbildung zu ermöglichen.

  • Anwendungen – Das 193-nm-UV-Licht wird häufig in der Fotolithographie für die Herstellung von Halbleiterchips und andere Präzisionsmikrobearbeitungen eingesetzt.

Mit seiner kurzen Wellenlänge und zuverlässigen Leistung sind Argonfluorid-Excimer-Laser eine vielseitige UV-Quelle für die anspruchsvolle Materialbearbeitung, die maximale Auflösung erfordert.


Zeitpunkt der Veröffentlichung: 12. September 2023