DerArgonfluoridDer ArF-Excimer-Laser nutzt die einzigartigen Eigenschaften der ArF-Gasmischung, um einen präzisen 193-Nanometer-Ultraviolett-Laserstrahl zu erzeugen.Hier ist ein genauerer Blick auf den Laserprozess:
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Gasentladung – Durch Anlegen einer elektrischen Hochspannungsentladung an das ArF-Gas entstehen freie Elektronen und Argonionen.
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Excimer-Bildung – Die Argonatome und Fluormoleküle binden sich und bilden Excimermoleküle in kurzlebigen angeregten Zuständen.
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Stimulierte EmissionIon – Die Excimere zerfallen schnell wieder in ungebundene Atome und setzen Photonen frei, die eine weitere Photonenfreisetzung auslösen.
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Optischer Hohlraum – Das emittierte UV-Licht prallt zwischen dem Rückspiegel und dem teilweisen Vorderspiegel ab und regt so eine weitere Lichtabgabe an.
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Nanosekundenimpulse – Die Nichtgleichgewichtsnatur der Excimer-Reaktion begrenzt die Impulsdauer auf Nanosekunden mit Spitzenleistungen im Megawattbereich.
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Strahlabgabe – Der Ausgangsstrahl wird durch präzise optische Komponenten fokussiert und über die Zieloberfläche gescannt.
Durch diesen Prozess kann der transiente Excimer-Zustand im Argonfluoridgas effizient hochenergetische 193-nm-Ultraviolettimpulse für Mikrobearbeitungsanwendungen erzeugen, die höchste Präzision erfordern.
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 12. September 2023