Argonfluorid-Excimerlaser wurden erstmals in den 1970er Jahren entwickelt und erfreuen sich aufgrund ihrer einzigartigen Wellenlänge von 193 Nanometern immer größerer Beliebtheit.Wie sieht die Zukunft der ArF-Technologie aus?
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Lithographie der nächsten Generation –ArF-LaserEs wird erwartet, dass sie eine weitere Miniaturisierung bis hin zur Herstellung von Halbleiterknoten mit Sub-10-Nanometer-Knoten ermöglichen.
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Verbesserte Pulskontrolle – Fortschritte bei der Pulsmodulation und -formung werden zu einer höheren Verarbeitungspräzision bei empfindlichen Materialien führen.
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Höhere Durchschnittsleistungen – Neue Gaskammerdesigns ermöglichen höhere Wiederholungsraten und durchschnittliche Strahlleistungen.
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Tischsysteme – Kompaktere und erschwinglichere ArF-Lasereinheiten werden zu einer breiteren Akzeptanz über spezialisierte Einrichtungen hinaus führen.
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Neuartige Anwendungen – Die Wellenlänge von 193 nm bietet potenzielle Einsatzmöglichkeiten in den Bereichen Sterilisation, Fluoreszenzstudien, Nanochirurgie und 3D-Druck.
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Gasrecycling – CDie Rückgewinnung und Reinigung von ArF-Gasgemischen im verlorenen Kreislauf wird den Betrieb wirtschaftlicher und umweltfreundlicher machen.
Auch nach über 40 Jahren Entwicklungszeit stellt das innovative Excimer-Lasermedium Argonfluorid weiterhin eine tief-ultraviolette Lichtquelle dar, die in absehbarer Zukunft die Produktion immer kleinerer und leistungsstärkerer Mikroelektronik ermöglicht.
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 14.09.2023