WährendKohlenstofftetrafluoridhat eine etablierte Verwendung als dielektrisches Gas- und Plasmaätzmittel, neue Anwendungen nutzen weiterhin seine einzigartigen Eigenschaften:
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Vorläufer für die Fluorpolymersynthese – CF4-Plasma unterstützt die Abscheidung von schützenden Fluorkohlenstoffpolymerfilmen und -pulvern
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Kernbrennstoffumwandlung – CF4 kann Uranhexafluorid zur Urananreicherung erzeugen
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Halbleiterreinigung – CF4-Plasma entfernt Siliziumdioxid und Fotolackrückstände
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Prüfgas – wird zur Erkennung von Lecks und Strömungsmustern bei sehr geringen Konzentrationen verwendet
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Modifikation der Linsenoberfläche – CF4-Behandlung verbessert die Hydrophobie der optischen Linse
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Kühlung von Teilchenbeschleunigern – hervorragende Wärmekapazität eignet sich für CF4 zur Kühlung supraleitender Abschnitte
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Negative Ionenstrahlen – die Injektion von CF4 in Duoplasmatrons erhöht die Stromabgabe negativer Ionen
Die extreme chemische Stabilität in Kombination mit der leicht dissoziierenden Natur von CF4 bietet eine vielseitige Kombination, für die Forscher in allen wissenschaftlichen und industriellen Bereichen immer wieder neue Anwendungen finden.
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 24. Okt. 2023