Kohlenstofftetrafluorid mit der chemischen Formel CF4 ist ein anorganisches Fluorkohlenstoffgas.Es hat eine tetraedrische Molekülgeometrie, die aus einem zentralen Kohlenstoffatom besteht, das von vier Fluoratomen umgeben ist.Hier sind einige der bemerkenswerten physikalischen und chemischen Eigenschaften von CF4:
Kohlenstofftetrafluorid (CF4)ist zu einem unverzichtbaren Gas für die Elektronikindustrie geworden, insbesondere bei Plasmaätz- und chemischen Gasphasenabscheidungsprozessen.Aufgrund seines hohen Fluorgehalts zerfällt CF4 in reaktive F-Radikale und Ionen, die selektiv Materialien wie Siliziumdioxid gegenüber Silizium ätzen.Dies ermöglicht eine präzise Strukturierung und Formgebung der isolierenden Oxidschichten auf Halbleiterwafern während der Mikrochipproduktion.CF4 eignet sich auch zur Reinigung von Abscheidungskammern, da es hartnäckige siliziumhaltige Rückstände entfernen kann.Darüber hinaus kann CF4 Wolfram und Titan selektiv ätzen, ohne Aluminium zu entfernen.Mit abstimmbaren Plasmabedingungen ermöglichen CF4-Plasmen ein anisotropes Ätzen, das für die Aufrechterhaltung vertikaler Seitenwände auf geätzten Strukturen für die Herstellung integrierter Schaltkreise unerlässlich ist.
Bei normaler Temperatur und normalem Druck ist es ein nicht brennbares, farbloses Gas.Es hat einen leicht schwachen ätherischen Geruch.Es ist in organischen Lösungsmitteln mäßig löslich.Es hat eine hohe Dichte von 3,72 g/L bei STP und ist damit etwa dreimal schwerer als Luft.Es ist eines der chemisch und thermisch stabilsten Kohlenstofffluoride.
CF4 bleibt über einen weiten Temperaturbereich bis etwa 500 °C inert.Es kann nur unter hohem Druck leicht verflüssigt werden.Eine Schlüsseleigenschaft ist seine hohe Elektronegativität und Durchschlagsfestigkeit, die etwa doppelt so hoch ist wie die von Luft.Dadurch eignet es sich gut als gasförmiges dielektrisches Medium.Insgesamt ist CF4 ein hochsymmetrisches, stabiles und nicht reaktives Gas, außer bei extremer Erwärmung oder elektrischen Entladungen.
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 16. Okt. 2023